侵權投訴
訂閱
糾錯
加入自媒體

中國又一家芯片制造企業(yè)量產(chǎn)14納米,國產(chǎn)芯片制造加速推進

2023-08-06 09:24
柏銘007
關注

日前消息指上海一家芯片制造企業(yè)已實現(xiàn)14納米工藝量產(chǎn),這是國內(nèi)第二家芯片制造企業(yè)量產(chǎn)14納米工藝,代表著國產(chǎn)芯片又多了一個新選擇,為國產(chǎn)芯片的發(fā)展提供重要支持。

上海這家芯片制造企業(yè)數(shù)年前就已實現(xiàn)28納米工藝量產(chǎn),之后一直在推進14納米工藝的研發(fā),直到今年5月份傳出消息指它的14納米工藝良率已提升至25%,數(shù)個月過去真正實現(xiàn)14納米工藝量產(chǎn)屬于情理之中。

14納米工藝無需先進的EUV光刻機,只要現(xiàn)有ASML可以對外出售的DUV光刻機就能實現(xiàn),甚至該芯片制造企業(yè)已用于28納米工藝生產(chǎn)的DUV光刻機采用多重曝光技術也能實現(xiàn)14納米工藝,因此這家芯片制造企業(yè)可以在當下美國限制先進光刻機對中國芯片制造企業(yè)供應情況下也能實現(xiàn)14納米工藝量產(chǎn)。

據(jù)悉為了加快14納米工藝的量產(chǎn),這家位于上海的芯片制造企業(yè)大舉從中國臺灣挖來關鍵技術人才,中國臺灣的兩大芯片代工企業(yè)早已實現(xiàn)14納米工藝量產(chǎn),臺積電如今已推進至3納米,聯(lián)電也早在多年前就實現(xiàn)14納米工藝量產(chǎn),中國臺灣的大量人才可以為它所用,加快了14納米工藝研發(fā)的進程。

14納米工藝比當前國內(nèi)大量生產(chǎn)的28納米工藝先進兩代,可以滿足更多國內(nèi)芯片設計企業(yè)的需求,畢竟國內(nèi)諸多芯片行業(yè)如今還在大量采用28納米及以上工藝生產(chǎn)芯片,14納米的推出將可以更好滿足國內(nèi)芯片設計企業(yè)的需求。

14納米工藝是一個重要節(jié)點,它引入了FinFET技術,比28納米工藝大幅提升了性能,對于汽車芯片等芯片可以提供更強的性能,目前仍然有較多國產(chǎn)汽車企業(yè)采用的驍龍820A就是一款采用14/16納米工藝的芯片,將有助于國產(chǎn)汽車芯片進一步搶奪美國芯片的市場。

FinFET技術非常重要,這項技術可以演進至3納米,臺積電的第一代7納米工藝就采用了DUV光刻機以多重曝光技術實現(xiàn),因此國產(chǎn)芯片制造企業(yè)實現(xiàn)14納米工藝也就意味著它們推進至7納米工藝邁出了重要一步。

這幾年國產(chǎn)芯片在美國的壓力下爆發(fā)了巨大的潛力,芯片制造企業(yè)正是在美國的壓力下加快研發(fā)了比14納米工藝更先進的12納米、相當于7納米的N+1工藝等等,相信在它們實現(xiàn)14納米工藝量產(chǎn)后,7納米工藝的研發(fā)進程將大幅加快。

國內(nèi)兩家芯片制造企業(yè)實現(xiàn)14納米工藝量產(chǎn),也提升了國產(chǎn)芯片制造的可靠性,畢竟有了兩家國產(chǎn)芯片制造企業(yè)14納米,國內(nèi)的14納米工藝產(chǎn)能將倍增,國產(chǎn)芯片設計企業(yè)也有了更多選擇,芯片生產(chǎn)供應也更有保障。

國產(chǎn)芯片在如此環(huán)境下加快創(chuàng)新,凸顯出國產(chǎn)芯片不畏艱險的精神,即使難以獲得更先進的光刻機,國產(chǎn)芯片也給予現(xiàn)有光刻機加快了芯片制造工藝的升級,相信國產(chǎn)芯片制造企業(yè)的技術必然會越來越先進,幫助國產(chǎn)芯片從芯片設計到制造都實現(xiàn)自主研發(fā),這是美國沒有想到的結(jié)果。

       原文標題 : 中國又一家芯片制造企業(yè)量產(chǎn)14納米,國產(chǎn)芯片制造加速推進

聲明: 本文由入駐維科號的作者撰寫,觀點僅代表作者本人,不代表OFweek立場。如有侵權或其他問題,請聯(lián)系舉報。

發(fā)表評論

0條評論,0人參與

請輸入評論內(nèi)容...

請輸入評論/評論長度6~500個字

您提交的評論過于頻繁,請輸入驗證碼繼續(xù)

暫無評論

暫無評論

    文章糾錯
    x
    *文字標題:
    *糾錯內(nèi)容:
    聯(lián)系郵箱:
    *驗 證 碼:

    粵公網(wǎng)安備 44030502002758號